HDI板上的污漬主要來(lái)源于生產(chǎn)過(guò)程中的油脂、塵埃、金屬氧化物、有機(jī)殘留物等。這些污漬不僅附著在板面,還可能深入微孔和精細(xì)線路之中,嚴(yán)重影響電路的導(dǎo)通性和信號(hào)的傳輸效率。此外,污漬還可能成為水分和腐蝕性物質(zhì)的“藏身之地”,加速HDI板的老化和腐蝕,降低產(chǎn)品的使用壽命。
等離子清洗機(jī)利用高頻電場(chǎng)將工作氣體(如氬氣、氮?dú)獾龋╇婋x成高能等離子體,這些等離子體中的電子、離子和自由基等活性粒子,在電場(chǎng)的作用下以極高的速度撞擊HDI板表面,產(chǎn)生強(qiáng)烈的物理和化學(xué)效應(yīng)。
物理效應(yīng):高速運(yùn)動(dòng)的粒子對(duì)污漬進(jìn)行物理轟擊,使其從HDI板表面剝離。
化學(xué)效應(yīng):等離子體中的活性粒子與污漬發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成揮發(fā)性物質(zhì),隨后被真空系統(tǒng)抽走。
表面改性:等離子體還能改變HDI板表面的化學(xué)性質(zhì),如增加表面能,提高后續(xù)工藝的粘附力。
深度清潔:等離子體能夠滲透到HDI板的微小孔洞中,實(shí)現(xiàn)深度清潔,這是傳統(tǒng)清洗方法難以做到的。
無(wú)損傷清洗:等離子清洗是干式清洗過(guò)程,無(wú)需使用化學(xué)溶劑,避免了對(duì)HDI板基材的腐蝕和損傷。
高效環(huán)保:清洗過(guò)程中產(chǎn)生的污染物可以被真空系統(tǒng)直接收集,減少了環(huán)境污染。
工藝可控:通過(guò)調(diào)整等離子體的參數(shù)(如氣體種類、功率、時(shí)間等),可以精確控制清洗效果,滿足不同HDI板的需求。
在HDI板的生產(chǎn)線上,等離子清洗機(jī)被廣泛應(yīng)用于去除油脂、塵埃、金屬氧化物等污漬。實(shí)踐證明,經(jīng)過(guò)等離子清洗的HDI板,其表面清潔度顯著提高,電路導(dǎo)通性和信號(hào)傳輸效率得到優(yōu)化,產(chǎn)品的可靠性和穩(wěn)定性也得到了大幅提升。此外,等離子清洗還能有效減少后續(xù)工藝中的缺陷率,提高生產(chǎn)效率和良品率。
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